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亲爱的读者：
您好，
美国是多数发明的重要申请国，能否获准专利关系到未来销售市场，如果当您的发明被核驳，但您并不服官方的审核时，就得要使用诉愿管道进行上诉，但根据统计，美国专利大约有60%的诉愿案，并不会进行到专利诉愿暨冲突委员会来作出最后的决定，且诉愿耗时甚久，因此本次「精选专题」就为读者介绍另一经济快速的诉愿管道－诉愿先期审查会议。
另外，在「知识产权观察」此次将带您了解专利审查跨国合作风潮也吹向亚洲，东南亚国协宣布共同开办东协专利审查合作计划。而亚洲最令人关注的中国，近期在知识产权保护也有一项引人注目的发展，中国专利新法在10月1日就要正式实施了，因此我们特别邀请北京著名的浩天信和事务所的律师来为读者分析此次修法的精神与要点。当然最后也不要错过「专利工程实务探讨」为读者分析探讨究竟需不需要申请中国集成电路布图设计专有权？
《北美知识产权报》是一份免费提供知识产权业界人士的刊物，希望藉由这些专业的文章，能让企业更加认识知识产权的重要性，以提升面对全球市场的竞争力。若您对本报有任何建议，欢迎来信提供我们；若您觉得这是一份不错的刊物，也欢迎转寄给您的好友。 |
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东协八国共同开办ASPEC专利审查合作计划 |
作者╱黄蓝闵 |
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专利审查跨国合作是近年相当引人注目的发展趋势，而这股风潮如今已吹向亚洲。东南亚国协成员，包括柬埔寨、印度尼西亚、寮国、马来西亚、菲律宾、新加坡、泰国、越南等8国，2009年6月15日共同宣布开办东协专利审查合作计划（ASPEC Programme），东协8国决定在专利审查事务上进一步合作。 |
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中国大陆专利法第三次修改之精神与要点介绍 |
作者╱许志勇 |
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中国专利法第三次修法在2009年10月1日就要正式实施了，这次的修改有两个贯穿始终的特点，一是鼓励创新能力的提高，二是加强对专利权的保护，同时兼顾了公众利益的平衡。为了让读者了解中国此次修法的要点与精神，本刊特邀请北京浩天信和许志勇律师撰写此篇文章来为读者作详细说明。 |
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需要申请中国集成电路布图设计专有权吗？
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作者╱邱子殷 |
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受到全球半导体市场衰退的影响，市场变化和利润的降低使得企业必须不断创新，半导体的知识产权问题变得更加重要。对于知识产权的保护，第一个想到的便是藉由专利申请来对其作保护，然而在半导体领域，关于集成电路布图设计的保护，除了专利申请外，还可以藉由集成电路布图设计登记来对其创新做保护。但专利与集成电路布图设计登记二者之间对知识产权的保护是否有差异？本文便带您一同来探讨。 |
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