營業秘密遭竊並非高科技產業的專利。傳統產業也會面臨台積電、聯發科等公司所擔心的營業秘密保護問題。本文意在介紹兩則侵害營業秘密的犯罪事件，其涉及石化產業與機具製造產業。值得注意者，兩個案例顯示傳統產業的營業秘密也遭境外勢力窺探，有賴經濟部相關單位協助改善營業秘密的保護機制。

基本概念

本文所介紹的兩件案例，涉及營業秘密法第13條之1第1項三款犯行：（1）第1款「以竊取、侵占、詐術、脅迫、擅自重製或其他不正方法而取得營業秘密，或取得後進而使用、洩漏者」；（2）第2款「知悉或持有營業秘密，未經授權或逾越授權範圍而重製、使用或洩漏該營業秘密者」；（3）第4款「明知他人知悉或持有之營業秘密有前三款所定情形，而取得、使用或洩漏者」。該犯罪的成立要求主觀要件，即被告須「意圖為自己或第三人不法之利益、或損害營業秘密所有人之利益」。

兩件案例還涉及第13條之2第1項域外犯罪加重處罰之規定，即「意圖在外國、大陸地區、香港或澳門使用，而犯第13條之1第一項各款之罪者」，可稱「意圖在境外使用」要件。

案例一：智慧財產及商業法院108年度刑智上更（一）字第3號刑事判決

在本案中，被害公司為石化產業的知名上市公司DL公司，而系爭營業秘密涉及乙烯-醋酸乙烯（ethylene vinyl acetate）共聚合物乳膠（稱「VAE乳膠」）之製程技術。本案被告Chen從1989年6月21日起至2014年6月26日退休時在DL公司之高雄大社廠服務，曾擔任主辦工程師、課長、副部長、部長、DL公司VAE乳膠事業部生產部長、及總經理室專員等職務，亦曾負責DL公司VAE乳膠之生產管理與銷售業務。

在2014年5月中旬，被告Chen受到Q國BC公司及其子公司ZB公司之總經理Chu招募，而同意其退休後赴ZB公司於HK工業園區之新廠區工地擔任建廠總工程師，以建設VAE乳膠生產線，且亦允諾在工廠完工後出任ZB公司HK廠房之廠長，以負責管理VAE乳膠生產；值得注意者為Chu原任職於DL公司。被告隨即在當月28與30日時，擅自透過公司配發的電腦下載系爭營業秘密，具體而言包括生產VAE乳膠所需之PID圖（piping & instrument diagram，譯名為「管線儀表控制圖」）、PFD圖（process flow diagram，稱「製程圖」）、管線配置、設備清單、設備圖、槽體及閥門規格、原物料規格、生產數據等資訊。

在2014年6月26日離職後，被告Chen曾將相關設備圖或製程圖修改，並提供給BC公司及ZB公司的人員。被告更於同年9月間，將其非法取得的DL公司資訊存入即將帶去Q國、且為工作使用之筆電或隨身硬碟中。被告之犯行在2015年被揭發。經DL公司訴請法務部調查局高雄市調查處進行調查後，檢察官於同年起訴被告。

審理本案之臺灣高雄地方法院於104年度智訴字第14號刑事判決（裁判日期：2016年7月19日）中，判被告犯營業秘密法第13條之2第1項之罪，且涉及第13條之1第1項第2款或第4款之非法使用或洩露營業祕密之行為。不過，本案地院不同意檢方所指被告有第13條之1第1項第1款之以擅自重製之非法方法而取得之行為，而認為證據僅顯示被告於2014年5月28與30日所取得之系爭營業秘密屬工作上所取得之資訊。

本案上訴至智慧財產法院時，該智財法院於105年度刑智上訴字第35號刑事判決（裁判日期：2018年1月17日）中維持一審之有罪認定。不過，該判決經最高法院於107年度台上字第2950號刑事判決（裁判日期：2019年8月22日）中廢棄，其原因是該判決內對所主張之各項營業秘密並未完整討論是否皆符合要件。本案發回後，該智商法院於108年度刑智上更（一）字第3號刑事判決（裁判日期：2022年2月24日）改判被告Chen雖犯營業秘密法第13條之2第1項之罪，但僅有第13條之1第1項第2款之使用及洩漏營業秘密之行為。

案例二：智慧財產及商業法院109年度刑智上重訴字第5號刑事判決

本案屬於內神通外鬼類之案例。本案之被害公司為KM公司，其以設計與製造電動精密滑台為主要業務。系爭營業秘密為電動滑台產品之細部零件圖，特別是該些圖示中的幾何公差資訊。本案被告Pan於2004年間任職於KM公司，其後於2016年1月1日擔任研發部二部副理，但卻於2017年3月1日提出離職申請，並於同年4月30日正式離職。

在2014年間，被告Pan於Q國認識LH公司之Lee（Q國籍）。因LH公司想發展電動精密滑台之製造事業，卻缺少相關產品的製造技術，故Lee聘請被告替LH公司繪製電動精密滑台的細部零件圖。但至少自字2017年3或4月起，被告即開始受Lee之委託，並參考KM公司的系爭營業秘密，以替LH公司繪製類似產品的設計圖。

此外，在2016年4月30日離職後，被告Pan隨即於6月15日赴Q國而繼續為LH公司繪製電動精密滑台的細部零件圖，並將系爭營業秘密之設計圖所設定之幾何公差使用於其為LH公司繪製之設計圖中。被告於KM公司在職時曾將相關工作用的細部零件圖存於個人筆電內，卻於離職後繼續持有。被告後於2017年5月8與9日將原儲存之細部零件圖檔案重新整理存放的路徑，並複製至該筆電D槽之「WINDOWS舊更新資料夾」中。被告另在2018年2月11與12日擅自將KM公司之電動滑台之細部零件圖（含幾何公差）重製於新購筆電D槽之「PDS（產技課）」資料夾中。

被告Pan犯行的揭發是KM公司發現Q國市場上充斥低價的仿冒產品，而其檢視被告在職時使用之電腦後，發現有LH公司型號產品之檔案紀錄（僅有檔名及路徑，但檔案刪除）。因而，KM公司於2017年12月4日向法務部調查局臺中市調查站檢舉。後調查局幹員待被告於2018年1月19日返國後，即於2月12日前往被告住處搜索相關證據。

本案經檢察官於臺灣彰化地方法院起訴，而該地院於107年度智訴字第3號刑事判決（裁判日期：2020年7月3日）中，判被告Pan犯營業祕密法第13條之2第1項之罪、且有第13條之1第1項第1款之非法使用或洩漏營業秘密之行為。

本案上訴時，雖該智商法院於109年度刑智上重訴字第5號刑事判決（裁判日期：2022年5月18日）維持營業祕密法第13條之2第1項之罪，但其認為被告Pan之犯行屬第13條之1第1項第2款之知悉及持有營業秘密卻未經授權而洩漏該營業秘密之行為。但就「意圖在境外使用」要件，本案智商法院並無明顯討論。另本案之有罪判決已經最高法院111年度台上字第4256號刑事判決（裁判日期：2022年12月14日）所維持。

議題：「意圖在境外使用」要件

案例一與案例二間之差異在於「意圖在境外使用」要件之認定，雖案例一之前審智財法院於105年度刑智上訴字第35號刑事判決中無明顯討論，但本案發回後，該智商法院於108年度刑智上更（一）字第3號刑事判決則有解釋該要件為何成立。

首先，該智商法院指出「被告離職後隨即前往BC公司工作並擔任其子公司即ZB公司之廠長，以負責與DL公司相同之VAE乳膠產品研發業務，並獲有年薪約300萬元等情」，此有被告於偵查之供承、被告在Q國署名為「ZB化學Chen」或「ZB科技Chen」之電子郵件、及ZB公司設立登記資料等可佐證。

第二，該智商法院表示「被告於2014年5月中旬自DL公司離職前，即已允諾Chu前往ZB公司任職，並達成以年薪300萬元薪資作為該公司得使用DL公司營業秘密代價之合意」，此有被告之供承、被告銀行帳戶於2014年至2015年間之交易明細資料等證據所支持。因此，該智商法院認為「被告無論在2014年5月中旬離職前或離職後，未經授權而重製或取得、使用、洩漏DL公司營業秘密之目的，顯係意圖在大陸地區使用，堪予認定」。

將意圖在外國、大陸地區、香港或澳門使用，而有擅自取得、揭露或使用營業秘密之行為課予刑事責任，是2013年所立法。但近期該「意圖」要件才經最高法院111年度台上字第3655號刑事判決之解釋而「不要求」實際使用。案例一屬以「實際使用」證明「意圖」要件；而案例二屬於「實際使用之虞」類型，其基於當營業秘密已經或有可能交到競爭者手中，該競爭者即使不實際使用，也可參酌來研發或定價。

【本文僅反映專家作者意見，不代表本報立場。】

作者： 陳秉訓 現任： 國立政治大學科技管理與智慧財產研究所教授 經歷： 國立台北科技大學智慧財產權研究所助理教授 華邦電子公司製程工程師 聯華電子公司製程整合研發工程師 台灣茂矽電子公司專利工程師 禹騰國際智權公司專利工程師 威盛電子公司專利工程師 亞太國際專利商標事務所專案副理 學歷： 美國聖路易華盛頓大學法律博士 美國聖路易華盛頓大學智慧財產暨科技法律法學碩士 政治大學法律科際整合研究所法學碩士 台灣大學化工所碩士 台灣大學化工系

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