在設計專利申請實務中，為了在2D繪圖中顯示3D產品外觀形狀的輪廓或表面，設計專利申請人經常使用繪圖技術（例如：切邊線，也稱為線框）來指明表面輪廓，以代替或添加陰影線或點畫。最近，美國加州北區地方法院在simplehuman, LLC v iTouchless Housewares and Products Inc. 的案件發布了一項關於專利權範圍解讀的命令[1]，將兩項設計專利中所謂的輪廓線解釋為主張的裝飾性特徵。在該決定中，法院強調了設計專利中清晰表面陰影的好處，且確定圖紙中用以說明曲面和平坦表面之間的過渡邊緣所謂的輪廓或切邊線不是表現表面輪廓的適當線條，而是其所主張的裝飾性設計特徵。

※本文為「法院將設計專利圖式中表面的輪廓邊切線解釋為設計特徵」系列之第一部分；全文可至「北美線上論文集」閱讀。

圖片來源 : shutterstock、達志影像

美國設計專利申請案僅得主張一項申請專利範圍。申請專利範圍係依據具體實施或應用其設計的物品界定申請人欲取得專利之設計。申請專利範圍的形式必須寫成「如圖及所述（具體實施或應用設計之所在的物品）之裝飾性設計」。由於設計專利權利範圍非常依賴於所附之圖式。因此，MPEP[1]第15章中規定，設計專利申請案必須提出充分且足夠的視圖，所附之圖式必須足以清楚且完整地揭示申請人所主張的整體外觀設計，任何揭示於圖式中的部分都是設計專利權範圍的重要元素（essential element）[2]。在Elmer案件[3]中，CAFC說明：審判法院有責任解讀設計專利的權利範圍，解讀專利主張的權利範圍是法官的工作，而陪審團必須接受法官所作的正確解讀。設計專利權範圍解讀之基本原則，是以USPTO所公告之圖式為主，再以說明書及申請過程檔案為輔，運用先前案例所建立的法則（rules）予以解讀。

圖式相關的法律規定

施行細則第1.152條之規定

設計申請案須附有依照專利法施行細則第1.84條所要求之代表圖式，必須包含能充分顯示該設計多面視圖所構成的完整揭露。圖式中，可使用特有和適當的表面陰影，以顯示該設計之特徵或外觀輪廓；不允許使用純黑色表面陰影，除非用於表示黑色以及顏色對比。虛線可用於顯示可視的環境構造，但不可使用在顯示無法穿透之不透明材料下所隱藏平面和表面。

在設計專利的申請案中，不得將照片和墨線圖組合使用於同一申請案之正式圖式中；在設計專利申請案中，以照片取代墨線圖時，照片不能揭露環境構造，只能揭露該物品所請求的設計；設計圖式不允許將其中一個設計零件的變更位置以斷線的形式存在同一圖式上。

每一件設計專利申請案必須附上所請求之設計之圖式或照片。申請人所附的圖式或照片必須是清楚而且完整，這一點很重要，因為這些圖式或照片是用來組構出該申請專利之設計的整體外觀及視覺效果，況且，設計專利係依據其所附的圖式或照片內容而授與專利。

MPEP有關設計專利圖式的規定

各面視圖

為完整地揭示主張之設計的整體外觀，以墨線繪製的圖面或黑白照片，其中必須包含足夠數量的各面視圖，例如：前視圖、後視圖、右側視圖、左側視圖、仰視圖及俯視圖。立體圖不是必要的視圖，但係屬物品形狀或外觀的立體空間設計者，則建議提出立體圖，得以清楚顯示三度空間型態的形狀或外觀。當所提出的立體圖可以清楚明確地揭示該設計的形狀或外觀，而不需要再以其他視圖來說明時，則可省略掉其他視圖。

如其中一視圖僅屬複製該設計的其他視圖，或者僅是光滑表面的視圖而不包括其中的裝飾圖樣者，只要能由說明書之內容就可清楚知曉時，設計的圖面中就得以省略掉這些視圖。例如，設計的左側視圖和右側視圖是相同或是對映的鏡像時，只需提供其中一個視圖，並在圖面說明中敘明「另一個視圖是相同或是對映的鏡像」即可。如設計的仰視圖係為光滑表面時，可在圖面說明中敘明「該仰視圖是未經裝飾的光滑表面」，即可省略該仰視圖。如果可看到的表面是具有結構而且明顯地不光滑者，就不得用「未經裝飾」用語來描述這種表面。在某些案例中，雖以物品的整體來主張設計專利，但該物品在正常使用情形下，無法看到該物品所有的視圖，這種情況下，可以不必揭示該物品的所有的視圖。另可以將設計中的各個元件更清楚地分辨的剖面圖，是允許提出的，但在剖面圖中揭露功能性的特徵或與該外觀設計無關的內部結構，則是法所不允許的。

表面的陰影

圖式中物品的表面應以適當的陰影來處理，以便清楚地揭示該設計的立體空間外觀所有的表面輪廓與特徵。以表面陰影來明顯區分該設計的實體區域與開放區域是必要的。一般情形，有兩種方法可以應用陰影，線性（如圖1左側）或點畫。點畫是使用小點進行著色。允許在同一物體上使用點畫和直線陰影以顯示對比，但不應在同一表面上使用（如圖1右側）。不可以使用整個黑色表面陰影的表現方式，但以整個黑色表面陰影的方式來表現黑色及其與其他色彩之對比關係，則不在此限。如果申請專利之設計的圖面，因為沒有繪製適當的表面陰影，而導致該設計的形狀及輪廓無法清楚辨識者，則不合於美國專利法第112條第1項規定。

圖1：物品表面陰影的揭露方式

此外，依據申請時文件所揭露的內容，無法清楚得知該設計的形狀，於爾後所補充的圖面再添加表面陰影，應視為加入新事項（new matter）。而所謂新事項係指凡加入於請求項、圖面或說明書的事項，或根據請求項、圖面或說明書而加入的事項，在最初設計專利申請案文件的內容中，並未揭示過或建議過該事項時，即構成加入新事項。

虛線

使用虛線的目的僅是為了協助說明，惟虛線所表示的部分並不是該主張之設計一部分。在必須表示該設計所使用的環境時，結構環境雖不是該設計的一部分，但可在圖面中以虛線來表示該結構環境（如圖2右側）。凡係屬該設計所具體實施或應用之物品部分，該物品雖不是所主張之設計的一部分，但可使用虛線來表示該物品。當主張之設計僅是物品的表面裝飾時，該表面裝飾所具體實施或應用之物品，可使用虛線表示之。如果邊界線不打算構成要求保護設計的一部分，則可以用虛線表示。當該邊界現在實施該設計的物品中實際上不存在時，申請人可以選擇用虛線定義要求保護的設計的邊界（如圖2左側）。應當理解，要求保護的設計延伸到邊界但不包括邊界。

圖2：圖式中以虛線表示環境及邊界線

一般使用虛線的原則，係虛線部分不得干擾或越過所主張之設計，同時，虛線的線條應較細，而描繪所主張之設計所使用的線條較粗黑。當表示結構環境的虛線不得不干擾或越過表示主張之設計圖像，或者使該設計的清楚程度變得模糊時，應該增加一張只有所主張之設計的圖形，或另外繪製其他能清楚明確的揭露設計標的之圖面，以資說明。

備註：

【本文僅反映專家作者意見，不代表本報立場。】

作者： 葉雪美（Sherry H.M. Yeh） 學歷： 世新大學法律研究所法學碩士 國立成功大學工業設計系學士 經歷： 科技部 研發成果管理審查會委員 經濟部智慧財產局專利一組 簡任專利高級審查官 中央標準局新式樣專利主任審查員（75-76） 中央標準局專利審查委員（80-89） 台灣科技大學 專利所 兼任助理教授 著作： 《美國設計專利侵害認定相關問題研究－兼論我國新式樣專利侵害認定問題》，2004。 《設計專利申請實務－台灣及美國專利申請策略》，元照出版公司，2008。

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